非導電樣品絕緣電阻大，在電子束掃描下，樣品表面逐漸積累負電荷，排斥入射電子，二次電子發射不穩定，并隨機偏轉二次電子，造成圖像晃動、亮度突變、出現無規則的明暗條紋，也就是所謂的 “荷電效應 ”。

通常在樣品表面鍍一層導電膜可以提高樣品的導電性，表面的負電荷通過導電膜釋放入地，消除荷電。電荷釋放的前提是膜層須與金屬樣品臺相連接，形成導電通道，此外連續的導電膜也可以提高樣品的導熱性，減小熱損傷。目前常用的鍍膜技術為真空蒸發和離子濺射。

常用的鍍膜材料有C、 Al、 Cr、 Au-. Pt、 Au-Pd合金。金膜二次電子產率高、覆蓋性好、鍍膜容易，是常用的材料，但顆粒較大，適用于中低范圍的分辨率、兩萬倍以下的圖像。Pt和Au-Pd合金膜的顆粒要細得多，適用于高分辨率圖像。 使用場發射電鏡對膜層要求更高，至少要在20萬倍下膜層不能顯現結構，高真空鍍Cr可以滿足要求o C膜均勻性好，導電導熱效率高，又是經濟的材料，只是二次電子產率低，不適合高倍圖像。

ZEM15臺式掃描電鏡能譜一體機

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